不能同时使用立方体贴图和 2D 纹理

Question

使用 2D 纹理创建阴影贴图，立方体贴图包含辐射。当我从每个获取值并渲染时，它们会正确显示。但是，当我计算这两个值时，只显示 glClearColor() 颜色并且对象消失了。

layout(location = 0) out vec4 color;

in vec2 ShadowTexCoord;

uniform sampler2D ShadowMap;
uniform samplerCube CubeMap;

void main() {
  color = texture2D(ShadowMap, ShadowTexCoord);
}

此结果显示被直射光照亮的区域。

layout(location = 0) out vec4 color;

in vec2 ShadowTexCoord;

uniform sampler2D ShadowMap;
uniform samplerCube CubeMap;

void main() {
  color = texture(CubeMap, WorldPosition - CubePos);
}

此结果显示在预计算中获得的辐射值。

layout(location = 0) out vec4 color;

in vec2 ShadowTexCoord;

uniform sampler2D ShadowMap;
uniform samplerCube CubeMap;

void main() {
  color = texture2D(ShadowMap, ShadowTexCoord) * texture(CubeMap, WorldPosition - CubePos);
}

此结果应仅针对直射光照射范围内的辐射值显示。 它们都给出了正确的结果，但是当我计算它们的每个值时，唯一的结果是 glClearColor()。

可能的因素有哪些？

Answer 1

您需要为两个纹理使用不同的纹理单元。即使 GL 中的每个纹理单元对于不同的纹理类型（1D、2D、3D、Cube、1D Array、2D Array、Cube Array 等等）都有不同的绑定槽，也只有 一个 纹理可以在绘制调用期间通过每个纹理单元访问（意味着您在所有着色器阶段中进行的所有纹理访问）。

因此，如果您同时将 2D 纹理和立方体贴图绑定到单元 0，并执行一次通过 sampler2D 访问单元 0 的绘制调用，然后切换到通过 @ 访问单元 0 的程序，那就没问题了987654322@，但一旦程序尝试通过多个采样器类型访问单元 0，它就会失败。